特許
J-GLOBAL ID:200903011270865981

感放射線性組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-245744
公開番号(公開出願番号):特開2000-171967
出願日: 1999年08月31日
公開日(公表日): 2000年06月23日
要約:
【要約】【課題】 放射線を用いたハーフミクロンリソグラフィーに対応可能な高解像性かつ高感度な感放射線性組成物を提供する。【解決手段】 塗膜形成性樹脂と、下記一般式(1)で表されるビススルホニルジアゾメタン化合物とを含有する感放射線性組成物。【化7】
請求項(抜粋):
塗膜形成性樹脂と、下記一般式(1)で表されるビススルホニルジアゾメタン化合物とを含有することを特徴とする感放射線性組成物。【化1】
IPC (3件):
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (8件)
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