静電吸着ステージ

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-075118
公開番号（公開出願番号）：特開平8-274150
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：

【要約】【目的】静電吸着ステージにおいて、複雑な機構を設けることなくウェハ1が離脱し易く搬送アームに円滑に移載されるようにする。【構成】ウェハ1の載置面4eを膨らむように曲率をもたせて形成してウェハ1の周辺部に隙間1aをもたせ、さらに、ウェハ1の周辺部を吸着する誘電膜4dの吸着力を中央部の誘電膜4cのものより弱めることにより、電荷をディスチャージしウェハ1を載置面からリフトピン2の突き上げにより引離すとき、ウェハ1の周辺部から徐々に中心部に向って載置面から引き剥すようにしている。

請求項（抜粋）：

円板状の半導体ウェハの載置面に誘電膜が形成される板状の高電気抵抗体と、この高電気抵抗体の該載置面から前記半導体ウェハを突き上げる複数のリフトピンとを備える静電吸着ステージにおいて、前記半導体ウェハの外周辺部の裏面と前記載置面との間に隙間があるように該載置面が上に膨らむような曲率をもつことを特徴とする静電吸着ステージ。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , H01L 21/3065 , H02N 13/00 , B23Q 3/15

FI (4件)：

H01L 21/68 R , H02N 13/00 D , B23Q 3/15 D , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (11件)

静電チヤツク
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-305346 出願人：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-288014 出願人：東京エレクトロン株式会社
ドライエッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-322732 出願人：新日本製鐵株式会社

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