イオン注入装置

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高橋陽介 , 斎藤春弥
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-300154
公開番号（公開出願番号）：特開2006-114329
出願日： 2004年10月14日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：

【課題】イオンビームの水平、垂直方向の外径を調整し、低エネルギー、大電流でも比較的小さなスポットサイズのイオンビームを安定して得ることができるイオン注入装置を提供する。【解決手段】イオンBを生成するイオン源110からイオンBを引き出し、質量分離器120により所望のイオン種を選定し、この質量分離器120の下流側に配置された質量分離スリット130を透過したイオン種を加減速管140により所望のエネルギーに加速又は減速し、加減速管140の下流側に配置された四重極レンズによりイオンBを収束させて、基板の注入面に所望のイオンBを注入するイオン注入装置10において、質量分離スリット130と加減速管140との間に、イオンビームBの外径を調整する調整用静電四重極レンズ20を配置した。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

イオンを生成するイオン源からイオンを引き出し、質量分離器により所望のイオン種を選定し、この質量分離器の下流側に配置された質量分離スリットを透過したイオン種を加減速管により所望のエネルギーに加速又は減速し、前記加減速管の下流側に配置された四重極レンズにより前記イオンを収束させて、半導体ウェーハ等の基板の注入面に前記所望のイオンを注入するイオン注入装置において、前記質量分離スリットと前記加減速管との間に、イオンビームの外径を調整する調整用静電四重極レンズを配置したことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (3件)：

H01J 37/317 , H01J 37/04 , H01L 21/265

FI (3件)：

H01J37/317 Z , H01J37/04 A , H01L21/265 603B

Fターム (4件)：

5C030AA04 , 5C030AB05 , 5C034CC03 , 5C034CC17

引用特許：

出願人引用 (1件)

イオン注入方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-015700 出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (5件)

イオン加速装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-026259 出願人：日本真空技術株式会社
特開昭61-233955
イオン注入装置、イオン注入方法、イオンビーム源、及び可変スリット機構
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-086902 出願人：玉井忠素

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