特許
J-GLOBAL ID：200903011359014640
ノズルプレートの製造方法、液滴吐出ヘッド及び画像形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-081129
公開番号（公開出願番号）：特開2007-253479
出願日： 2006年03月23日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：
【課題】ノズルのテーパ部を自由な断面形状・角度にすることができ、ノズルのテーパ部と直線部の位置合わせができるノズルプレートの製造方法を提供することである。【解決手段】シリコン基板の一方の面に前記シリコン基板のエッチングの進行を阻止するエッチストッパ層を形成するエッチストッパ層形成工程と、前記シリコン基板の他方の面にマスク層を形成するマスク層形成工程と、前記マスク層の開口部をパターニングするマスクパターニング工程と、前記マスク層側からドライエッチングを行うことにより前記シリコン基板にノズルのテーパ部を形成するテーパ部形成工程と、前記マスク層側からドライエッチングを行うことにより前記エッチストッパ層にノズルの直線部を形成する直線部形成工程と、前記マスク層を剥離するマスク層剥離工程と、を有すること、を特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
シリコン基板の一方の面に前記シリコン基板のエッチングの進行を阻止するエッチストッパ層を形成するエッチストッパ層形成工程と、
前記シリコン基板の他方の面にマスク層を形成するマスク層形成工程と、
前記マスク層の開口部をパターニングするマスクパターニング工程と、
前記マスク層側からドライエッチングを行うことにより、前記シリコン基板にノズルのテーパ部を形成するテーパ部形成工程と、
前記マスク層側からドライエッチングを行うことにより、前記エッチストッパ層にノズルの直線部を形成する直線部形成工程と、
前記マスク層を剥離するマスク層剥離工程と、を有すること、
を特徴とするノズルプレートの製造方法。
IPC (3件)：
B41J 2/135
, B41J 2/045
, B41J 2/055
B41J3/04 103N
, B41J3/04 103A
2C057AF93
, 2C057AG02
, 2C057AG15
, 2C057AP12
, 2C057AP13
, 2C057AP32
, 2C057AP42
, 2C057AP47
, 2C057AP54
, 2C057AP57
, 2C057AP59
, 2C057AP60
, 2C057AQ02
, 2C057BA14
