特許
J-GLOBAL ID：200903011366378372
基板の乾燥方法、その装置、液晶表示素子の製造方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-022429
公開番号（公開出願番号）：特開2003-222875
出願日： 2002年01月30日
公開日（公表日）： 2003年08月08日
要約：
【要約】【課題】 均一な乾燥がより短時間でできる配向膜形成後の仮焼成装置を提供する。【解決手段】 配向膜13を成膜したガラス基板12をステージ15の設置面16に設置する。仮焼成ブロー手段21のシャワーパイプ部23をステージ15の長手方向に向けて移動しながら、シャワーパイプ部23のガス噴出口24から窒素ガスGを噴出させる。この窒素ガスGをガラス基板12上の配向膜13における長手方向に沿って徐々に吹き付けて、この配向膜13を乾燥させる。ガラス基板12上の配向膜13に含まれるポリイミド液中の溶媒の揮発による配向膜13の乾燥がより均一かつ短時間でできる。ガラス基板12から製造した液晶表示装置の製造性を向上できる。
請求項（抜粋）：
基板の一主面に成膜された膜状体の面方向に沿って相対的に移動させながら、この膜状体に気体を吹き付けて、この膜状体を乾燥させることを特徴とする基板の乾燥方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1337 525
, F26B 5/00
G02F 1/1337 525
, F26B 5/00
2H090HB08
, 2H090HC05
, 2H090HC14
, 2H090HC18
, 3L113AA03
, 3L113AB09
, 3L113AC69
, 3L113DA10
