特許

J-GLOBAL ID：200903011539598608

洗浄装置

発明者： 蔭山 剛志 ,  谷 伸夫
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-027848
公開番号（公開出願番号）：特開2001-212531
出願日： 2000年02月04日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】【課題】CMP処理等の加工処理した後の基板の表裏面に付着した研磨屑等のパーティクルを除去する洗浄部での洗浄効果を高める。【解決手段】ウエハWに洗浄処理を行う基板処理装置100であって、CMP装置200によりCMP処理されたウエハWを洗浄するための複数の処理部30,40,50へ基板Wを順次搬送する。処理部30ではウエハWを保持ハンド35a,35bの保持用ローラ80(a〜c)に保持する。周縁部洗浄手段90は下方から昇降駆動手段94により洗浄位置に配置される。保持用ローラ80(a〜c)の回転により回転されるウエハWの表裏は両面洗浄装置35により洗浄され、同時に周縁部は周縁部洗浄手段90のブラシ毛922の側面に押圧され、その下面及び端面が洗浄される。

請求項（抜粋）：

薄板状の被処理体を処理する洗浄装置において、前記被処理体の端部を洗浄する傾斜側面を有する洗浄部を有する周縁部洗浄手段と、前記周縁部洗浄手段を被処理体の平面側から当接させる移動手段と、を有し、前記移動手段は被処理体の端部を周縁部洗浄手段の前記傾斜側面に当接させることを特徴とする洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 1/04 ,  H01L 21/304 644

FI (2件)：

B08B 1/04 ,  H01L 21/304 644 C

Fターム (9件)：

3B116AA02 ,  3B116AB23 ,  3B116AB44 ,  3B116BA02 ,  3B116BA08 ,  3B116BA13 ,  3B116BB62 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-217462   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-096090   出願人：新日本製鐵株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-030511   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-034347   出願人：株式会社荏原製作所

審査官引用 (3件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-217462   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-096090   出願人：新日本製鐵株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-030511   出願人：大日本スクリーン製造株式会社