特許
J-GLOBAL ID：200903011890208816
浸漬型膜モジュールの洗浄方法及び洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
赤塚 賢次
, 福田 保夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-198738
公開番号（公開出願番号）：特開2006-021066
出願日： 2004年07月06日
公開日（公表日）： 2006年01月26日
要約：
【課題】 処理槽から取り出すことなく槽内洗浄ができると共に、酸化剤の使用を極力低減して膜の劣化を抑制する浸漬型膜モジュールの洗浄方法を提供すること。 【解決手段】 高濃度のカルシウムを含有する液中に配設される浸漬型膜モジュールの洗浄方法であって、{(現在の差圧)-(初期差圧)}で示される差圧上昇値が設定値Xに達した時点で透過液流路を通して該浸漬型膜モジュールの内部に酸性の洗浄薬液を注入し、膜を洗浄する第1洗浄工程と、該第1洗浄工程の繰り返し実施により漸次上昇する初期差圧が設定値Yに達した時点で透過液流路を通して該浸漬型膜モジュールの内部に酸化剤を含有する洗浄薬液を注入し、膜を洗浄する第2洗浄工程を有する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
高濃度のカルシウムを含有する液中に配設される浸漬型膜モジュールの洗浄方法であって、次式(1);
浸漬型膜モジュールの差圧上昇値=(現在の差圧)-(初期差圧) (1)
(式中、初期差圧は、該浸漬型膜モジュールへの通水開始時又は洗浄後通水再開直後の差圧であり、洗浄が実施される毎に更新される。)で示される差圧上昇値が設定値Xに達した時点で透過液流路を通して該浸漬型膜モジュールの内部に酸性の洗浄薬液を注入し、該浸漬型膜モジュールの膜を洗浄する第1洗浄工程と、該第1洗浄工程の繰り返し実施により漸次上昇する初期差圧が設定値Yに達した時点で透過液流路を通して該浸漬型膜モジュールの内部に酸化剤を含有する洗浄薬液を注入し、該浸漬型膜モジュールの膜を洗浄する第2洗浄工程を有することを特徴とする浸漬型膜モジュールの洗浄方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (16件)：
4D006GA02
, 4D006HA01
, 4D006HA21
, 4D006HA41
, 4D006HA93
, 4D006KA01
, 4D006KB13
, 4D006KC03
, 4D006KC16
, 4D006KD01
, 4D006KD08
, 4D006KD12
, 4D006KD15
, 4D006KE06P
, 4D006KE06R
, 4D006KE28R
