特許

J-GLOBAL ID：200903011938017147

水素分離装置

発明者： 田中 裕之 ,  島森 融 ,  志垣 秀和 ,  安田 勇 ,  白崎 義則 ,  常木 達也
出願人/特許権者： 日本特殊陶業株式会社 ,  東京瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 福村 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-138195
公開番号（公開出願番号）：特開2006-314876
出願日： 2005年05月11日
公開日（公表日）： 2006年11月24日
要約：

【課題】 高純度の水素ガスを分離可能な水素分離装置を提供すること。【解決手段】 多孔質支持体10と、前記多孔質支持体10に支持される水素透過膜20とを備えた水素分離装置1であって、前記水素透過膜20は、その膜厚が1〜30μmであり、その表面の欠陥が0.010個/cm2以下である水素分離装置1。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

多孔質支持体と、前記多孔質支持体に支持される水素透過膜とを備えた水素分離装置であって、前記水素透過膜は、その膜厚が1〜30μmであり、その表面の欠陥が0.010個/cm2以下である水素分離装置。

IPC (2件)：

B01D 53/22 ,  B01D 69/10

FI (2件)：

B01D53/22 ,  B01D69/10

Fターム (27件)：

4D006GA41 ,  4D006HA22 ,  4D006HA93 ,  4D006JA02B ,  4D006JA03A ,  4D006JA03B ,  4D006JA03C ,  4D006MA02 ,  4D006MA09 ,  4D006MA10 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MB20 ,  4D006MC02X ,  4D006NA31 ,  4D006NA50 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PA05 ,  4D006PB18 ,  4D006PB66 ,  4G140FA02 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FC07 ,  4G140FE01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特許第3213430号
  
• ガス分離体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-393850   出願人：日本碍子株式会社
• 水素製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-313978   出願人：東京瓦斯株式会社

審査官引用 (5件)

• 水素選択透過膜支持用基材および水素選択透過部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-021413   出願人：株式会社神戸製鋼所
• 水素分離膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-180165   出願人：松下電器産業株式会社
• ガス分離体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-393850   出願人：日本碍子株式会社
• ガス分離体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-073449   出願人：日本碍子株式会社
• 分離膜モジュール及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-022384   出願人：京セラ株式会社