特許
J-GLOBAL ID:200903043173035795
水素製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
加茂 裕邦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-313978
公開番号(公開出願番号):特開2004-149332
出願日: 2002年10月29日
公開日(公表日): 2004年05月27日
要約:
【課題】従来では必須であった粒状等の改質触媒を不要とし、従来の水素製造装置に比べて格段に単純化し、小型化できるなど各種有用な効果が得られる水素製造装置、そのための円筒型反応管及び平板型反応板を得る。【解決手段】円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の外周面又は内周面に水素透過膜を配置してなり、円筒状改質触媒兼支持体の内側に原料ガスを通して円筒状改質触媒兼支持体で改質ガスを生成し、改質ガスを水素透過膜により精製して高純度水素を製造するようにしてなる水素製造装置、およびそのための円筒型反応管。改質触媒兼支持体を平板状とし、平板型反応板として構成してもよい。【選択図】図3
請求項(抜粋):
円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の外周面に水素透過膜を配置してなり、円筒状改質触媒兼支持体の内側に原料ガスを通して円筒状改質触媒兼支持体で改質ガスを生成し、改質ガスを水素透過膜により精製して高純度水素を製造するようにしてなることを特徴とする水素製造装置。
IPC (8件):
C01B3/40
, B01D53/22
, B01D69/04
, B01D69/06
, B01D69/10
, B01D71/02
, B01J19/24
, C01B3/56
FI (8件):
C01B3/40
, B01D53/22
, B01D69/04
, B01D69/06
, B01D69/10
, B01D71/02 500
, B01J19/24 A
, C01B3/56 Z
Fターム (40件):
4D006GA41
, 4D006MA02
, 4D006MA03
, 4D006MA09
, 4D006MC02X
, 4D006NA50
, 4D006PA02
, 4D006PB20
, 4D006PB66
, 4D006PC69
, 4G075AA03
, 4G075BA05
, 4G075BB05
, 4G075CA02
, 4G075CA51
, 4G075CA54
, 4G075DA02
, 4G075EB21
, 4G075EC09
, 4G075EE02
, 4G075EE12
, 4G075EE23
, 4G075FA12
, 4G075FA14
, 4G075FB02
, 4G075FC02
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EB19
, 4G140EB23
, 4G140EB37
, 4G140EB46
, 4G140EB48
, 4G140EC02
, 4G140EC08
, 4G140FA02
, 4G140FB09
, 4G140FC01
, 4G140FE01
, 4G140FE06
引用特許:
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