特許
J-GLOBAL ID：200903011961690703
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-120671
公開番号（公開出願番号）：特開2007-318117
出願日： 2007年05月01日
公開日（公表日）： 2007年12月06日
要約：
【課題】液浸リソグラフィ装置において、基板および/または基板テーブルの表面からの液体の除去を改善する装置を提供する。【解決手段】ガスナイフ410は、平均半径からより離れた、投影ビームPBに近いガスナイフの領域が存在するように、ガスナイフ410の平均半径よりも小さい半径を持つ8つのセグメントから構成されている。液体エキストラクタ420は、ガスナイフ410のちょうど半径方向内側で最も遠いガスナイフ410の部分に位置する。このようなガスナイフ410と基板の移動とを組み合わせることにより、液体除去デバイスである液体エキストラクタ420に液体を集めることができる。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
パターニングデバイスから基板へパターンを転写するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムと、
前記空間を少なくとも部分的に取り囲むように配置された第1のガスナイフと、
前記ガスナイフの一部分に隣接し且つこれに沿って位置付けられた液体除去デバイスと、
を備えるリソグラフィ装置であって、
前記基板が、前記基板の面上のいずれかの方向であって、前記装置の光軸を通る方向に、少なくとも36°の弧状に移動する際、前記基板の面に対して垂直な面であって、前記方向を含む面内の前記基板上の液体が、前記ガスナイフと、前記方向での前記基板のさらなる移動との複合効果によって、前記ガスナイフに沿って前記液体除去デバイスへ移されるように、前記ガスナイフが形成されている、リソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
5F046AA28
, 5F046BA03
, 5F046CB24
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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