特許
J-GLOBAL ID：200903047439633770
層上のスポットを照射するための方法及び装置における液体除去
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
伊東 忠彦
, 大貫 進介
, 伊東 忠重
, 永坂 均
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-559975
公開番号（公開出願番号）：特表2006-510146
出願日： 2003年11月14日
公開日（公表日）： 2006年03月23日
要約：
層(3)を照射するために、放射線ビーム(7)が層(3)上のスポット(11)に方向付けられ、且つ、集束される。さらに、層(3)の異なる部分が連続的に照射され、且つ、層(3)と層(3)に最も近接する光学素子(59)との間の空間(53)が維持されるよう、光学素子(59)に対する層(3)の相対動作が引き起こされる。さらに、放射線が通過して層(3)上のスポット(11)を照射する空間の少なくとも一部は液体(91)で満たされた状態で維持される。ガス流(71乃至73)を層(3)の表面ゾーン(74)に向けることによって、層(3)に損傷を与えることなしに、液体(91)が表面ゾーン(74)を通ることが確実に阻止される。液体(91)は表面ゾーン(74)近傍の層(3)から引き離される。
請求項（抜粋）：
少なくとも1つの光学素子を用いて、放射線ビームを層上のスポットに方向付け且つ集束するステップと、
層の異なる部分が連続的に照射され、且つ、前記層と前記層に最も近接する前記少なくとも1つの光学素子との間の空間が維持されるよう、前記少なくとも1つの光学素子に対する層の相対動作を引き起こすステップと、
前記放射線が通過して前記スポットを照射する前記空間の少なくとも一部を、供給導管を介して供給される液体で満たされた状態に維持するステップと、
を有する層を照射する方法であって、
ガスを前記層に方向付けるステップと、
前記ガスの流れの近傍において、供給された液体を前記層から除去するステップと、
を有することを特徴とする方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G11B7/26 501
, H01L21/30 515D
5D121BB21
, 5D121BB32
, 5D121BB38
, 5D121GG02
, 5D121GG20
, 5F046BA04
, 5F046BA07
, 5F046DA07
, 5F046DA27
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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