特許
J-GLOBAL ID：200903099526021390

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

発明者：
クリスチャン アレクサンダー ホゲンダム

クリスチャン アレクサンダー ホゲンダム について

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ヨハネス ヘンリクス ヴィルヘルムス ヤコブス

ヨハネス ヘンリクス ヴィルヘルムス ヤコブス について

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ニコラス テン カテ

ニコラス テン カテ について

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フリッツ ファン デル ムーラン

フリッツ ファン デル ムーラン について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-270100
公開番号（公開出願番号）：特開2006-093703
出願日： 2005年09月16日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：
【課題】液体リザーバの完全な更新を確保しながら、投影系に対する基板の走査方向の変化に関係なく連続的に動作させることができる液体供給系を提供すること。【解決手段】走査式浸漬リソグラフィ装置において、液体の流れがほぼ走査方向に垂直になるように、浸漬液は投影系と基板の間の空間の一方の側で供給され、もう一方の側で排出される。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
基板を投影系に対して第1の方向に走査しながら、該投影系を用いてパターンをパターン形成装置から該基板に投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、 液体を前記投影系と前記基板の間の空間に供給するように構成され、液体供給口及び液体排出口を有し、液体が該空間を横切ってほぼ前記第1の方向に垂直な方向に流れるように、該供給口及び該排出口が該空間の両側に配置された液体供給系を有するリソグラフィ投影装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 516F ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D
Fターム (4件)：
5F046BA03 ,  5F046CB24 ,  5F046CC08 ,  5F046DA27
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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