プラズマエッチング装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡部敏彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-047278
公開番号（公開出願番号）：特開2002-252209
出願日： 2001年02月22日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】より一層の耐久性を向上させることのできる耐プラズマ性部材を具備したプラズマエッチング装置を得ることができるようにした。【解決手段】バッフル板12、絶縁リング13、第1及び第2のベローズカバー14、15等の耐プラズマ性部材をフッ化イットリウム(YF3)で形成する。

請求項（抜粋）：

被処理物にドライエッチング処理を施して該被処理物の表面を微細加工するプラズマエッチング装置において、処理室内に配設されている耐プラズマ性部材は、少なくとも表面がフッ化イットリウムで形成されていることを特徴とするプラズマエッチング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , C23C 4/04

FI (2件)：

C23C 4/04 , H01L 21/302 B

Fターム (9件)：

4K031AA08 , 4K031AB02 , 4K031AB09 , 4K031CB50 , 5F004AA15 , 5F004BA04 , 5F004BB28 , 5F004BB29 , 5F004CA05

引用特許：

審査官引用 (5件)

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