特許
J-GLOBAL ID：200903012494606295

酸化処理方法および酸化処理装置

発明者：
齋藤 幸正

齋藤 幸正 について

, 
山本 博之

山本 博之 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-225492
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058543
出願日： 1998年08月10日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：
【要約】【課題】 昇温工程での自然酸化膜の形成を十分に抑制することを可能とし、品質の優れた極薄酸化膜を形成することを可能とする。【解決手段】 予め所定の温度に加熱された処理炉内に被処理体を収容し、処理炉内を所定の処理温度まで昇温させ、処理ガスを供給して被処理体を酸化処理する方法において、前記昇温の工程を減圧下で行う。
請求項（抜粋）：
予め所定の温度に加熱された処理炉内に被処理体を収容し、処理炉内を所定の処理温度まで昇温させ、処理ガスを供給して被処理体を酸化処理する方法において、前記昇温の工程を減圧下で行うことを特徴とする酸化処理方法。
IPC (2件)：
H01L 21/316 ,  H01L 21/31
FI (2件)：
H01L 21/316 S ,  H01L 21/31 E
Fターム (26件)：
5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AB34 ,  5F045AC11 ,  5F045AC13 ,  5F045AC15 ,  5F045AD12 ,  5F045AE25 ,  5F045AF03 ,  5F045BB02 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045EB12 ,  5F045EB14 ,  5F045EB17 ,  5F045EE14 ,  5F045EE18 ,  5F045EG03 ,  5F058BA06 ,  5F058BC02 ,  5F058BF55 ,  5F058BF60 ,  5F058BF63 ,  5F058BF68 ,  5F058BH20 ,  5F058BJ01
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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