特許
J-GLOBAL ID：200903012507550278

鹸化セルロースエステルフィルムの製造方法、鹸化セルロースエステルフィルム及びこれを用いた偏光板、光学補償フィルム及び反射防止フィルム

発明者：
大平 学

大平 学 について

, 
園部 雅樹

園部 雅樹 について

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山岸 紗弥花

山岸 紗弥花 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-246176
公開番号（公開出願番号）：特開2009-074000
出願日： 2007年09月21日
公開日（公表日）： 2009年04月09日
要約：
【課題】架橋剤の過剰添加、加熱促進、電離放射線量アップ等の過酷な手段を採ることなく耐久性のある被膜を形成できる鹸化処理セルロースエステルフィルム及びそれを備えた光学フィルムを得る。【解決手段】セルロースエステルフィルム10に少なくとも水、有機溶媒及びアルカリ剤を含有するアルカリ水溶液12を塗布し、鹸化セルロースエステルフィルム10‘の鹸化処理面表層の可塑剤量を、ATR/IR法による測定で0.25以下となるようセルロースエステルフィルム10をアルカリ水溶液12で鹸化する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
鹸化セルロースエステルフィルムの製造方法あって、 (a)セルロースエステルフィルムに少なくとも水、有機溶媒及びアルカリ剤を含有するアルカリ水溶液を塗布する塗布工程と、 (b)前記セルロースエステルフィルムを前記アルカリ水溶液で鹸化し、該セルロースエステルフィルムの鹸化処理面表層の可塑剤量を、ATR/IR法による測定で0.25以下とする鹸化処理工程と、を含む鹸化セルロースエステルフィルムの製造方法。
IPC (4件)：
C08J 7/12 ,  G02B 5/30 ,  G02B 1/11 ,  G02F 1/133
FI (5件)：
C08J7/12 A ,  G02B5/30 ,  G02B1/10 A ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1335 510
Fターム (28件)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB33 ,  2H049BB49 ,  2H049BB65 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FA37X ,  2H091FB02 ,  2H091FC01 ,  2H091GA16 ,  2H091LA12 ,  2K009AA02 ,  2K009BB28 ,  2K009CC38 ,  2K009DD01 ,  4F073AA01 ,  4F073BA03 ,  4F073BB01 ,  4F073EA11 ,  4F073EA13 ,  4F073EA41 ,  4F073HA04 ,  4F073HA15
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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