特許
J-GLOBAL ID：200903012630207510

マルチビーム走査装置及びそれを用いた画像形成装置

発明者：
石原 圭一郎

石原 圭一郎 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-305583
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107379
出願日： 2001年10月01日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【課題】 同期位置決定手段が傾斜したり、凸凹であったり、さらに湾曲したことによるジッタ-の発生を回避することにより、常に良好なる画像を得ることができるマルチビーム走査装置及びそれを用いた画像形成装置を得ること。【解決手段】 光源手段1から射出された複数の光束を偏向手段5に導光し、偏向手段により偏向された複数の光束を走査光学手段7により被走査面8上に導光し、偏向手段により偏向された複数の光束の一部をそれぞれ同期検知手段10に導き、同期検知手段で得た同期信号を用いて行うマルチビーム走査装置において、同期検知手段は同期検知のタイミングを決める同期位置決定手段13を有し、偏向手段により偏向された複数の光束の一部が、それぞれ副走査断面内において同期位置決定手段の同一の位置、もしくは略同一の位置に到達すること。
請求項（抜粋）：
光源手段から射出された複数の光束を偏向手段に導光し、該偏向手段により偏向された複数の光束を走査光学手段により被走査面上に導光し、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をそれぞれ同期検知手段に導き、該同期検知手段で得た同期信号を用いて行うマルチビーム走査装置において、該同期検知手段は同期検知のタイミングを決める同期位置決定手段を有し、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部が、それぞれ副走査断面内において該同期位置決定手段の同一の位置、もしくは略同一の位置に到達することを特徴とするマルチビーム走査装置。
IPC (7件)：
G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  G02B 5/00 ,  G03G 15/01 112 ,  G03G 15/04 ,  H04N 1/036 ,  H04N 1/113
FI (8件)：
G02B 26/10 A ,  G02B 26/10 B ,  G02B 5/00 Z ,  G03G 15/01 112 A ,  G03G 15/04 ,  H04N 1/036 Z ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A
Fターム (39件)：
2C362BA52 ,  2C362BA56 ,  2C362BA69 ,  2C362BA89 ,  2C362BB29 ,  2C362BB30 ,  2C362BB31 ,  2C362CA22 ,  2H030AB02 ,  2H030BB02 ,  2H030BB16 ,  2H042AA12 ,  2H042AA21 ,  2H045AA01 ,  2H045BA02 ,  2H045BA23 ,  2H045BA33 ,  2H045CA88 ,  2H045CA98 ,  2H045CB65 ,  2H045DA02 ,  2H076AB06 ,  2H076AB31 ,  2H076EA01 ,  5C051AA02 ,  5C051CA07 ,  5C051DC04 ,  5C051EA01 ,  5C051FA01 ,  5C072AA03 ,  5C072BA17 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA09 ,  5C072HA12 ,  5C072HB08 ,  5C072HB13 ,  5C072XA01 ,  5C072XA04
引用特許：
審査官引用 (11件)
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