特許
J-GLOBAL ID：200903012940382770
繰返し可能な熱処理方法および機器
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 林 鉐三
, 清水 邦明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-530288
公開番号（公開出願番号）：特表2009-508337
出願日： 2006年09月14日
公開日（公表日）： 2009年02月26日
要約：
第1の熱処理方法は、工作物の面に入射する放射フラッシュを作る放射装置に関連する少なくとも1つの熱効率パラメータを監視し、熱効率パラメータの監視に応じて、放射装置が放射フラッシュを作るのに用いる制御情報を自動的に更新する段階を含む。第2の方法は、面の加熱パラメータの測定に応じて工作物の面に入射する放射フラッシュの加熱効果を予測し、予測加熱効果に応じて放射フラッシュを事前に調整する段階を含む。第3の方法は、面に入射する放射フラッシュの最初の部分の間の工作物の面の温度を測定し、この温度に応じて放射フラッシュの残りの部分の電力を制御する段階を含む。
請求項（抜粋）：
a) 工作物の面に入射する放射フラッシュを作る放射装置に関連する少なくとも1つの熱効率パラメータを監視する段階と、
b) 熱効率パラメータの監視に応じて、前記放射フラッシュを作る放射装置が用いる制御情報を自動的に更新する段階と、
ことを含む方法。
IPC (3件)：
H01L 21/26
, C23C 16/46
, C23C 14/50
H01L21/26 T
, C23C16/46
, C23C14/50 E
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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