特許
J-GLOBAL ID：200903013027494919

基板処理装置

発明者：
泉 昭

泉 昭 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-254214
公開番号（公開出願番号）：特開2004-095805
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：
【課題】基板表面を安定して確実に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】第1ガスノズル41および第2ガスノズル42はノズルアーム43の先端部近傍に固設されている。純水によるリンス処理後の基板Wを回転させつつ、ノズルアーム43を軌跡Rに沿って回動させるとともに、第1ガスノズル41および第2ガスノズル42から窒素ガスを吐出する。第1ガスノズル41からの窒素ガス吹きつけによってまず目視可能な水分を緩やかに基板W上から排除し、第1ガスノズル41によって窒素ガスが吹き付けられた基板W上の領域と同一の領域に第2ガスノズル42から窒素ガスを吹き付けることによって微細なパターン等に極微量に残留した水分をも完全に取り除くことが出来る。その結果、基板Wの表面を安定して確実に乾燥させることができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
純水による洗浄処理が終了した基板に気体を吹き付けて当該基板を乾燥させる基板処理装置であって、 純水が付着した基板の表面に気体を吹き付ける第1気体吐出手段と、 前記第1気体吐出手段によって既に気体が吹き付けられた前記基板上の領域と同一の領域にさらに気体を吹き付ける第2気体吐出手段と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L21/304 ,  F26B5/14
FI (3件)：
H01L21/304 651L ,  H01L21/304 651B ,  F26B5/14
Fターム (4件)：
3L113AB02 ,  3L113AB09 ,  3L113BA34 ,  3L113CB20
引用特許：
審査官引用 (5件)
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