特許
J-GLOBAL ID：200903038682863903

基板洗浄装置及び基板洗浄方法

発明者：
難波 和善

難波 和善 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-259336
公開番号（公開出願番号）：特開2002-066467
出願日： 2000年08月29日
公開日（公表日）： 2002年03月05日
要約：
【要約】【課題】 基板表面から除去させられた汚染物質を基板表面に再付着(転写)させることなく洗浄できる手段を提供する。【解決手段】 基板W表面に付着した汚染物質を洗浄する装置7であって,基板Wを支持する支持手段22と,基板W表面を洗浄する複数のスクラブ洗浄具31,31と,これら複数のスクラブ洗浄具31,32を基板に対して相対的に移動させる移動手段26,27を備えている。複数のスクラブ洗浄具のうちの少なくとも一つのスクラブ洗浄具31は,他の少なくとも一つのスクラブ洗浄具32に比べて,基板W表面に付着した汚染物質の除去能力が優れている。他の少なくとも一つのスクラブ洗浄具32は,少なくとも一つのスクラブ洗浄具31に比べて,汚染物質の付着性が低い。
請求項（抜粋）：
基板表面に付着した汚染物質を洗浄する装置であって,基板を支持する支持手段と,基板表面を洗浄する複数のスクラブ洗浄具と,これら複数のスクラブ洗浄具を基板に対して相対的に移動させる移動手段を備え,複数のスクラブ洗浄具のうちの少なくとも一つのスクラブ洗浄具は,他の少なくとも一つのスクラブ洗浄具に比べて,基板表面に付着した汚染物質の除去能力が優れ,他の少なくとも一つのスクラブ洗浄具は,少なくとも一つのスクラブ洗浄具に比べて,前記汚染物質の付着性が低いことを特徴とする,基板洗浄装置。
IPC (8件)：
B08B 1/04 ,  B08B 3/04 ,  B08B 7/04 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 644 ,  H01L 21/304
FI (9件)：
B08B 1/04 ,  B08B 3/04 B ,  B08B 7/04 A ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 644 G ,  H01L 21/304 644 B ,  H01L 21/304 644 C
Fターム (30件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B116AA03 ,  3B116AB23 ,  3B116AB34 ,  3B116AB47 ,  3B116BA02 ,  3B116BA13 ,  3B116BA34 ,  3B116BB22 ,  3B116BB62 ,  3B116BB83 ,  3B116CC03 ,  3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB34 ,  3B201AB47 ,  3B201BA02 ,  3B201BA13 ,  3B201BA34 ,  3B201BB22 ,  3B201BB62 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CC13
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM