特許
J-GLOBAL ID:200903013072090730
エッジ位置算出装置、障害物検出システム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
永井 冬紀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-361502
公開番号(公開出願番号):特開2006-170706
出願日: 2004年12月14日
公開日(公表日): 2006年06月29日
要約:
【課題】エッジが近接している場合にも、サブピクセル位置を正確に算出することができるようにする。 【解決手段】サンプル点における輝度の時間変化に基づいて、対象点の輝度をサブピクセル位置に変換するための変換テーブルを作成し(ステップS100)、その変換テーブルに基づいて対象点における輝度をサブピクセル位置に変換することにより、サブピクセル位置を算出する(ステップS200)。このサブピクセル位置に基づいてエッジの速度を算出し、算出されたエッジ速度によって障害物を検出して(ステップS300)、障害物の表示を行う(ステップS500)。【選択図】図2
請求項(抜粋):
時間的に連続する画像を取得する画像取得手段と、
前記画像取得手段により取得された画像内の特定の画素(サンプル点)における輝度の時間変化を計測する輝度変化計測手段と、
前記画像取得手段により取得された画像より1または2以上のエッジを抽出するエッジ抽出手段と、
前記輝度変化計測手段により計測された前記サンプル点における輝度の時間変化に基づいて、前記エッジ抽出手段により抽出されたエッジが存在する画素(対象点)内におけるエッジ位置を示すサブピクセル位置を算出するサブピクセル位置算出手段とを備えることを特徴とするエッジ位置算出装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (26件):
2F065AA03
, 2F065AA12
, 2F065AA17
, 2F065BB05
, 2F065BB15
, 2F065CC11
, 2F065CC14
, 2F065DD03
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065QQ01
, 2F065QQ03
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ33
, 2F065QQ42
, 2F065RR09
, 2F065SS09
, 2F065UU05
, 5H180AA01
, 5H180CC04
, 5H180LL04
, 5H180LL07
, 5H180LL08
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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距離測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-278505
出願人:株式会社豊田中央研究所
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特開平2-079585
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動きベクトル推定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-140932
出願人:ソニー株式会社
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