特許
J-GLOBAL ID:200903013503083914
半導体IC内蔵基板
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
鷲頭 光宏
, 緒方 和文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-063288
公開番号(公開出願番号):特開2006-253168
出願日: 2005年03月08日
公開日(公表日): 2006年09月21日
要約:
【課題】 高い放熱特性及び高いEMC特性を確保しつつ、端子面の使用効率を高めることによって、端子電極数の増加を可能とした半導体IC内蔵基板を提供する。【解決手段】 積層された絶縁層111〜113からなり、端子面110aに複数の端子電極121,122が形成された多層基板110と、主面130aが多層基板110の端子面110a側を向くよう、多層基板110に内蔵された半導体IC130と、半導体IC130の裏面130bの少なくとも一部に接して設けられた放熱層140と、多層基板110を貫通して設けられ、放熱層140と端子電極122とを接続するスルーホール電極141とを備える。これにより、多層基板110の端子面110aに大面積のグランドパターンを形成する必要がなくなるため、端子面110aの使用効率が高く、端子電極の数を増加することが可能となる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
積層された複数の絶縁層からなり、一方の表面に複数の端子電極が形成された多層基板と、
主面が前記多層基板の前記一方の表面側を向くよう、前記多層基板に内蔵された半導体ICと、
前記半導体ICの裏面の少なくとも一部に接して設けられた放熱層と、
前記多層基板を貫通して設けられ、前記放熱層と前記端子電極とを接続するスルーホール電極とを備えることを特徴とする半導体IC内蔵基板。
IPC (2件):
FI (6件):
H01L23/12 J
, H05K3/46 Q
, H05K3/46 T
, H05K3/46 U
, H01L23/12 B
, H01L23/12 E
Fターム (15件):
5E346AA11
, 5E346AA12
, 5E346AA15
, 5E346AA23
, 5E346AA25
, 5E346AA43
, 5E346BB01
, 5E346BB16
, 5E346BB20
, 5E346CC02
, 5E346CC08
, 5E346CC31
, 5E346FF45
, 5E346HH01
, 5E346HH17
引用特許: