特許
J-GLOBAL ID：200903013651419433
光学用ポリイミド基板及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-187194
公開番号（公開出願番号）：特開平11-023870
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：
【要約】【課題】 光学特性の改善された光学用ポリイミド基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】 ポリイミド基板の表面の平均粗さが50nm以下である光学用ポリイミド基板。ポリイミド基板の表面に平均粗さが50nm以下である膜が形成されている光学用ポリイミド基板。ポリイミド基板の表面に膜を形成した後、研磨により平均粗さが50nm以下である表面にする工程を含む光学用ポリイミド基板の製造方法。【効果】 偏波依存性、光損失共小さいポリイミド光導波路が作製できる。
請求項（抜粋）：
ポリイミド基板の表面の平均粗さが50nm以下であることを特徴とする光学用ポリイミド基板。
IPC (3件)：
G02B 6/12
, B29C 59/00
, C08J 5/00 CFG
G02B 6/12 N
, B29C 59/00 C
, C08J 5/00 CFG
