3次元光学素子創製システム

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： , , ,
代理人 (3件)：三枝英二 , 三枝英二 , 三枝英二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-128494
公開番号（公開出願番号）：特開2001-311811
出願日： 2000年04月27日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】素子表面が曲面である3次元光学素子を精度よく製造することができる方法を提供する。【解決手段】素子表面が曲面である3次元光学素子を製造する方法であって、光学素子の曲面形状を設定するための形状設定データを決定し、素子を形成する基板上に感光性レジスト層を形成し、該レジスト層の表面形状を測定することにより形状測定データを得、前記形状設定データと形状測定データとの差から形状差データを得、該形状差データにおける差の大きさに応じてレーザーの照射量を変えつつ前記レジスト層にレーザー照射を行ない、前記レジスト層の現像処理により該レジスト層に精密位置出し面を得、これを光学素子面とすることを特徴とする3次元光学素子の製造方法。

請求項（抜粋）：

素子表面が曲面である3次元光学素子を製造する方法であって、光学素子の曲面形状を設定するための形状設定データを決定し、素子を形成する基板上に感光性レジスト層を形成し、該レジスト層の表面形状を測定することにより形状測定データを得、前記形状設定データと形状測定データとの差から形状差データを得、該形状差データにおける差の大きさに応じてレーザーの照射量を変えつつ前記レジスト層にレーザー照射を行ない、前記レジスト層の現像処理により該レジスト層に精密位置出し面を得、これを光学素子面とすることを特徴とする3次元光学素子の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 5/18 , G02B 5/00 , G03F 7/20 505 , G03F 7/24 , G03F 9/02

FI (5件)：

G02B 5/18 , G02B 5/00 Z , G03F 7/20 505 , G03F 7/24 Z , G03F 9/02 Z

Fターム (20件)：

2H042AA20 , 2H042AA32 , 2H049AA16 , 2H049AA18 , 2H049AA33 , 2H049AA37 , 2H049AA48 , 2H049AA51 , 2H049AA57 , 2H097AA03 , 2H097AA16 , 2H097BA01 , 2H097BB01 , 2H097BB04 , 2H097CA17 , 2H097FA09 , 2H097KA01 , 2H097KA29 , 2H097KA38 , 2H097LA17

引用特許：

審査官引用 (7件)

曲面グレーティングの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-282300 出願人：オリンパス光学工業株式会社
レーザ微細加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-052364 出願人：住友重機械工業株式会社
ゾーンプレート製造方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-170372 出願人：株式会社ニコン

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