特許
J-GLOBAL ID：200903014025638200

過酸化水素の製造方法

発明者：
福住 俊一

福住 俊一 について

, 
小谷 弘明

小谷 弘明 について

, 
大久保 敬

大久保 敬 について


出願人/特許権者：
独立行政法人科学技術振興機構

独立行政法人科学技術振興機構 について


代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-136990
公開番号（公開出願番号）：特開2007-308316
出願日： 2006年05月16日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：
【課題】従来のエネルギー消費型の方法ではなく、光エネルギーをエネルギー源とし、安価なコールタールと酸素から過酸化水素を製造し得る方法を提供すること。【解決手段】9-メシチル-10-メチルアクリジニウムイオンからなる光触媒の存在下、コールタールと酸素に可視光を照射することを特徴とする過酸化水素の製造方法、及び9-メシチル-10-メチルアクリジニウムイオンからなる光触媒の存在下、アントラセン、アントラセンのモノアルキル置換誘導体、ナフタレンのアルキル置換誘導体及びナフタレンのアルコキシ置換誘導体からなる群より選ばれた少なくとも1種と酸素に可視光を照射して反応させることを特徴とする過酸化水素の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
9-メシチル-10-メチルアクリジニウムイオンからなる光触媒の存在下、コールタールと酸素に可視光を照射することを特徴とする過酸化水素の製造方法。
IPC (3件)：
C01B 15/024 ,  B01J 35/02 ,  B01J 31/02
FI (3件)：
C01B15/024 ,  B01J35/02 J ,  B01J31/02 102M
Fターム (14件)：
4G169AA06 ,  4G169BA21A ,  4G169BA21B ,  4G169BA48A ,  4G169BE14A ,  4G169BE14B ,  4G169BE37A ,  4G169BE37B ,  4G169BE38A ,  4G169BE38B ,  4G169CB81 ,  4G169HA01 ,  4G169HB10 ,  4G169HE20
引用特許：
審査官引用 (7件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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