特許
J-GLOBAL ID：200903014364053688
シリコーンエラストマーの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-346407
公開番号（公開出願番号）：特開平10-176059
出願日： 1997年12月16日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：
【要約】【課題】 シリコーンエマルジョンに形成することができるシリコーンエラストマーの形態にある低分子量シロキサン流体または溶剤を提供すること。【解決手段】 低分子量シロキサン流体の存在下で≡SiH含有シロキサンとα,ω-ジエンのような不飽和炭化水素シリコーンの架橋反応によりシリコーンエラストマーを製造する方法。
請求項（抜粋）：
(A)式:R3 SiO(R'2SiO)a (R''HSiO)bSiR3 または式:(R'2SiO)a (R''HSiO)b により表される≡Si-H含有ポリシロキサン、および任意に式:HR2 SiO(R'2SiO)c SiR2 Hにより表される≡Si-H含有ポリシロキサンまたは式:HR2 SiO(R'2SiO)a (R''HSiO)b SiR2 Hにより表される≡Si-H含有ポリシロキサン(前記式中、R、R' およびR''は炭素原子数1〜6のアルキル基であり、aは0〜250の値、bは1〜250の値、cは0〜250の値である。);および(B)式:CH2 =CH(CH2 )x O(CH2 CH2 O)y (CH2 CH3CHO)z Tまたは式:CH2 =CH-Q-O(CH2 CH2 O)y (CH2 CH3 CHO)z T(前記式中、Tは水素、C1 〜C10アルキル基、アリール基またはC1 〜C20アシル基であり、Qは不飽和を含有する二価連結基であり、xは1〜6の値であり、yは0または1〜100の値であり、zは0または1〜100の値であるが、yおよびzの両方が0でないことを条件とする。)により表されるモノアルケニルポリエーテル;を白金触媒の存在下、ポリエーテル基を有する≡Si-H含有ポリシロキサンが形成されるまで反応させる工程;ならびに(C)前記ポリエーテル基を有する≡Si-H含有ポリシロキサン;および(D)式:CH2 =CH(CH2 )x CH=CH2 により表されるα,ω-ジエン、式:CH≡C(CH2 )x C≡CHにより表されるα,ω-ジイン、および式:CH2 =CH(CH2 )x C≡CHにより表されるα,ω-エン-イン(前記式中、xは1〜20の値である。);を(E)不飽和炭化水素中の二重結合または三重結合を交差して≡SiHが架橋および付加することによってシリコーンエラストマーが形成されるまで(i) 有機化合物、(ii)ケイ素原子を含有する化合物、(iii) 有機化合物の混合物、(iv)ケイ素原子を含有する化合物の混合物および(v) 有機化合物とケイ素原子を含有する化合物の混合物から選ばれる溶剤ならびに白金触媒の存在下、反応させる工程;を含んでなるシリコーンエラストマーの製造方法。
IPC (3件)：
C08G 77/12
, A61K 7/00
, C08G 77/46
C08G 77/12
, A61K 7/00
, C08G 77/46
