特許
J-GLOBAL ID：200903035339460470
シリコーンエラストマーの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-151280
公開番号（公開出願番号）：特開平11-049957
出願日： 1998年06月01日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：
【要約】【課題】 界面活性剤を使用することなくエマルジョンを形成できるシリコーンペーストを製造する。【解決手段】 (A)≡SiH 含有ポリシロキサン;(B)モノアルケニルポリエーテル;(C)不飽和炭化水素、例えば、α,ω-ジエン;(D)貴金属触媒;及び(E)溶剤を1つのポット中に一緒にして、シリコーンエラストマーが生成するまで反応させることにより、低分子量シロキサン液を増粘できる、シリコーンエラストマーを製造する方法。
請求項（抜粋）：
(A)式R3SiO(R'2SiO) a (R"HSiO)b SiR3または式(R'2SiO)a (R"HSiO)b の≡SiH 含有ポリシロキサン、及び任意に式HR2SiO(R'2SiO)c SiR2H の≡SiH 含有ポリシロキサンまたは式HR2SiO(R'2SiO)a (R"HSiO)b SiR2H の≡SiH 含有ポリシロキサン〔式中、R,R’及びR”は炭素数1〜6のアルキル基であり、aは0〜250であり、bは1〜250であり、且つcは0〜250である〕;(B)式CH2 =CH(CH2) x O(CH2CH2O)y (CH2CH3CHO) z T または式CH2 =CH-Q -O(CH2CH2O)y (CH2CH3CHO) z T のモノアルケニルポリエーテル〔式中、Tは水素、C1 〜C10アルキル基、アリール基、またはC1 〜C20アシル基であり;Qは不飽和を含む二価結合基であり;xは1〜6であり、yは0または1〜100であり;且つzは0または1〜100であるが、y及びzは共に0ではない〕;(C)式CH2 =CH(CH2) x CH=CH2 のα,ω-ジエン、式CH≡C(CH2)x C ≡CHのα、ω-ジイン、及び式CH2 =CH(CH2) x C ≡CHのα,ω-エン-イン〔式中、xは1〜20である〕;(D)貴金属触媒;ならびに(E)(i)有機化合物、(ii)珪素原子を含む化合物、(iii)有機化合物の混合物、(iv)珪素原子を含む化合物の混合物、及び(v)有機化合物と珪素原子を含む化合物との混合物からなる群から選ばれた溶剤;を一緒にして反応させることを含んでなるシリコーンエラストマーの製造方法。
IPC (4件)：
C08L 83/05
, C08G 77/46
, C08K 5/01
, C08L 71/00
C08L 83/05
, C08G 77/46
, C08K 5/01
, C08L 71/00 B
