特許
J-GLOBAL ID：200903014484367244
揮発性有機化合物の処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
植木 久一
, 菅河 忠志
, 二口 治
, 伊藤 浩彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-230653
公開番号（公開出願番号）：特開2009-063210
出願日： 2007年09月05日
公開日（公表日）： 2009年03月26日
要約：
【課題】軽量、コンパクトで有機シリコン化合物含有排ガスに対し、より長時間、高い浄化率を維持することのできる揮発性有機化合物の処理装置を提供する。【解決手段】内管2と両端面の閉塞された外管3とがガス昇降通路となる間隙部を設けて同軸上に配置され、両管の一方端において間隙部と内管内とが連通され、他方端において内管2と外管3端面とが封止され、内管2内はガス連通路を残して縦隔壁9によって仕切られた2以上の反応室を有し、上記各反応室に蓄熱材層5,7と触媒層6,8が階層的に設けられ、ガス連通路に揮発性有機化合物を加熱反応させるヒータ10が備えられ、外管3に一対の排ガスの出入口11,12が設けられ、上記間隙部が、ガス出入口部から導入された排ガスを反応室に案内する第一ガス通路13と、反応室から送り出される浄化された排ガスをガス出入口部に案内する第二ガス通路14とに分割されていることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
揮発性有機化合物を含有する排ガスを酸化分解処理する処理装置において、
内管と両端面の閉塞された外管とがガス昇降通路となる間隙部を設けて同軸上に配置され、両管の一方端において上記間隙部と上記内管内とが連通され、他方端において上記内管と上記外管端面とが封止され、
上記内管内はガス連通路を残して縦隔壁によって仕切られた2以上の反応室を有し、上記各反応室に蓄熱材層と触媒層が階層的に設けられ、上記ガス連通路に揮発性有機化合物を加熱反応させる加熱手段が備えられ、
上記外管に一対の排ガスの出入口が設けられ、
上記間隙部が、上記ガス出入口部から導入された排ガスを上記反応室に案内する第一ガス通路と、上記反応室から送り出される浄化された排ガスを上記ガス出入口部に案内する第二ガス通路とに分割されていることを特徴とする揮発性有機化合物の処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
F23G7/06 103
, F23G7/06 D
, F23G7/06 102T
3K078AA06
, 3K078BA17
, 3K078DA14
, 3K078DA15
, 3K078DA16
, 3K078DA17
, 3K078DA22
, 3K078EA01
, 3K078EA04
, 3K078EA07
, 3K078EA08
出願人引用 (3件)
審査官引用 (7件)
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