特許
J-GLOBAL ID：200903014544077070

感放射線性樹脂組成物

発明者：
中島 浩光

中島 浩光 について

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齋藤 明夫

齋藤 明夫 について

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原田 健太郎

原田 健太郎 について

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西村 幸生

西村 幸生 について

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中川 大樹

中川 大樹 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-156792
公開番号（公開出願番号）：特開2007-327983
出願日： 2006年06月06日
公開日（公表日）： 2007年12月20日
要約：
【課題】波長193nmにおける屈折率が空気よりも高い液浸露光用液体を介して放射線照射する、液浸露光時に接触した水などの液浸露光用液体への溶出物の量が少ない。【解決手段】レンズとフォトレジスト膜との間に液浸露光用液体を介して放射線照射する液浸露光を含むレジストパターン形成方法に用いられ、樹脂(A)および下記式(1)および式(2)で表される少なくとも1つの感放射線性酸発生剤(B)を含む。 R1は水素原子、R2はアルコキシル基、Xはブチレン基、各R4およびR5は、フッ素化アルキル基である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
レンズとフォトレジスト膜との間に液浸露光用液体を介して放射線照射する液浸露光を含むレジストパターン形成方法に用いられ、樹脂(A)および感放射線性酸発生剤(B)を含み、前記フォトレジスト膜を形成する感放射線性樹脂組成物であって、 前記感放射線性酸発生剤(B)は下記式(1)および式(2)で表される少なくとも1つの感放射線性酸発生剤であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (12件)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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