特許
J-GLOBAL ID：200903013736721783

感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-029068
公開番号（公開出願番号）：特開2005-221721
出願日： 2004年02月05日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】 IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、パターン倒れが起こりにくい感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物として、-SO2-を含有する環構造を有するアニオンを有するスルホニウム塩又はヨードニウム塩を含有することを特徴とする感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(I)又は(II)で表されるアニオンを有する、スルホニウム塩又はヨードニウム塩を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (4件)：
G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (14件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (9件)
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