特許
J-GLOBAL ID：200903014745900450
リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、製造されたデバイス、これに関する、被汚染物を清掃する清掃装置および方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-369011
公開番号（公開出願番号）：特開2003-188096
出願日： 2002年11月15日
公開日（公表日）： 2003年07月04日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、光学部品が安定した洗剤で清掃されることの可能なリソグラフィ投影装置を提供する。【解決手段】 リソグラフィ投影装置において使用する光学部品の清掃は、光学部品を含んだ装置内のスペースを、水、窒素酸化物、および酸素含有炭化水素から選択された酸素含有種の存在下、250nmに満たない波長を有するUV放射線もしくはEUV放射線にて照射することにより実行される。一般的に、スペースは、通常のパージガス組成物に加えて、少量の酸素含有種を含むパージガスによりパージされる。本技法は、酸素含有種の低圧をスペース内に導入することで、排気されたスペースにおいても使用され得る。本技法ではオゾンのような不安定材料の使用を回避するという長所を有する。
請求項（抜粋）：
250nmないしはこれに満たない波長を有する電磁放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、リソグラフィ投影装置における光学部品を含んだスペースに、水、窒素酸化物、および酸素含有炭化水素から選択された酸素含有種から成るパージガスを供給するガスサプライとから成ることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 503
G03F 7/20 502
, G03F 7/20 503
, H01L 21/30 516 F
, H01L 21/30 514 E
2H097BA02
, 2H097BA04
, 2H097CA13
, 2H097CA15
, 2H097LA10
, 5F046AA17
, 5F046AA22
, 5F046DA27
