特許
J-GLOBAL ID：200903015231202261

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法

発明者：
高本 英司

高本 英司 について

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濱田 謙一

濱田 謙一 について

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蓑輪 貴樹

蓑輪 貴樹 について

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佐野 公康

佐野 公康 について

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西川 通則

西川 通則 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-045724
公開番号（公開出願番号）：特開2005-070735
出願日： 2004年02月23日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：
【課題】 高い感放射線感度を有し、十分な現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成しうる感放射線性組成物、層間絶縁膜及びマイクロレンズの提供。【解決手段】 [A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)エポキシ基含有不飽和化合物、(a3)テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、および下記式(1)【化1】で表される骨格の群から選ばれる少なくとも1つの骨格を含有する不飽和化合物、および(a4)(a1)、(a2)および(a3)以外の不飽和化合物の共重合体、ならびに[B]1,2-ナフトキノンジアジド化合物を含有する感放射線性組成物。それから製造された層間絶縁膜およびマイクロレンズ。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
[A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、 (a2)エポキシ基含有不飽和化合物、 (a3)テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、および下記式(1)
IPC (5件)：
G03F7/038 ,  C08F220/04 ,  C08F222/04 ,  G03F7/022 ,  H01L21/027
FI (5件)：
G03F7/038 503 ,  C08F220/04 ,  C08F222/04 ,  G03F7/022 ,  H01L21/30 502R
Fターム (45件)：
2H025AA01 ,  2H025AA14 ,  2H025AB14 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J100AB02S ,  4J100AB03S ,  4J100AB04S ,  4J100AE09Q ,  4J100AJ01P ,  4J100AJ02P ,  4J100AJ08P ,  4J100AK31P ,  4J100AK32P ,  4J100AL03S ,  4J100AL04S ,  4J100AL05S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL09S ,  4J100AL10Q ,  4J100AL11S ,  4J100AM02S ,  4J100AM43S ,  4J100BA03S ,  4J100BA16P ,  4J100BA21P ,  4J100BC04S ,  4J100BC08S ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC43S ,  4J100BC53R ,  4J100BC54Q ,  4J100CA06 ,  4J100JA33
引用特許：
出願人引用 (4件)
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