特許
J-GLOBAL ID：200903015248949310
位置合わせ方法および位置合わせ装置、並びに露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-272459
公開番号（公開出願番号）：特開2003-086483
出願日： 2001年09月07日
公開日（公表日）： 2003年03月20日
要約：
【要約】【課題】 マークの配列が非線形な誤差を含む場合でも高精度に位置合わせ可能な位置合わせ方法及び位置合わせ装置、並びに露光装置を提供する。【解決手段】 複数の基板上にそれぞれ形成されているマークの位置を順次計測して計測終了か否かを判断するステップ203と、計測された位置とそれらの設計上の位置との関係を所定の変換パラメータにより記述したときに各計測位置について残差に基づく全計測位置の総体的な誤差を最小とする変換パラメータ(B,Θ,S)を決定するステップ205と、決定された変換パラメータと予め記憶された補正テーブルとを用いて各位置合わせ対象物の設計上の位置を補正してマークの位置を決定するステップ206と、決定されたマークの位置を前記基準位置として複数の基板を順次位置合わせするために移動させるステップ207、ステップ208とを有する。
請求項（抜粋）：
複数の基板のそれぞれに予め所定の配列に従って複数の位置合わせ対象物が形成され、前記各位置合わせ対象物を位置合わせすることにより前記基板をそれぞれ所定の基準位置に順次位置合わせする位置合わせ方法であって、前記基板上にそれぞれ形成されている前記各位置合わせ対象物の位置を順次計測する第1工程と、前記第1工程により計測された位置とそれらの設計上の位置との関係を所定の変換パラメータにより記述したときに各計測位置について残差に基づく全計測位置の総体的な誤差を最小とする前記変換パラメータを決定する第2工程と、前記第2工程により決定された前記変換パラメータと予め記憶された補正テーブルとを用いて前記各位置合わせ対象物の設計上の位置を補正して前記各位置合わせ対象物の位置を決定する第3工程と、前記第3工程により決定された各位置合わせ対象物の位置を前記基準位置として他の前記基板を順次位置合わせするために移動させる第4工程とを有することを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 W
, H01L 21/30 525 X
