特許
J-GLOBAL ID：200903094553549400

露光方法及びデバイス製造方法

発明者：
菊地 貴久

菊地 貴久 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-159388
公開番号（公開出願番号）：特開2002-353121
出願日： 2001年05月28日
公開日（公表日）： 2002年12月06日
要約：
【要約】【課題】 スループットを極力低下させることなく重ね合わせ精度を良好に維持した露光を行う。【解決手段】 基板に関連する複数の条件のそれぞれについて基準ウエハ上のマークの検出結果に基づいて、実ウエハ上の複数のショット領域各々の設計値に対する位置ずれ量の非線形成分を補正するための補正マップを、予め用意する。そして、露光に先立って、指定されたショットデータ等に対応する補正マップを選択し(ステップ332)、ウエハ交換、サーチアライメント、EGAウエハアライメントにより全てのショット領域の配列座標を算出し(ステップ334〜338)、その配列座標と補正マップとに基づいて、ウエハを移動して各ショット領域に対して重ね合わせ誤差の殆どない高精度な露光を行う。補正マップの作成は、基板の処理に関連する条件毎に行っても露光の際のスループットに影響を与えない。
請求項（抜粋）：
基板上の複数の区画領域を順次露光して各区画領域に所定のパターンを形成する露光方法であって、前記基板に関連する少なくとも2種類の条件のそれぞれについて、特定基板上の複数のマークの検出結果に基づいて、前記基板上の複数の区画領域各々の個別の基準位置に対する位置ずれ量の非線形成分を補正するための補正情報から成る少なくとも2種類の補正マップを、予め作成するマップ作成工程と;露光に先立って、指定された条件に対応する補正マップを選択する選択工程と;前記基板上の複数の特定区画領域それぞれに対応して設けられた複数のマークを検出して得られる実測位置情報に基づいて統計演算により前記各区画領域の所定点との位置合わせに用いられる位置情報を求め、該位置情報と前記選択された補正マップとに基づいて、前記基板を移動して前記各区画領域を露光する露光工程と;を含む露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00
FI (3件)：
G03F 7/22 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 W
Fターム (9件)：
5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046FA10 ,  5F046FA17 ,  5F046FC03 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06 ,  5F046FC10
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (11件)
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