特許
J-GLOBAL ID：200903015274470480
ポジ型レジスト溶液
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-335606
公開番号（公開出願番号）：特開平8-179499
出願日： 1994年12月21日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：
【要約】【構成】 本発明のポジ型レジスト溶液は、アルカリ可溶性樹脂、1,2-キノンジアジド化合物及びプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネートを含む溶剤を含有してなる。【効果】 本発明のポジ型レジスト溶液は、特に大口径化された基板へスピンコート法で塗布することにより均一な厚みのレジスト被膜を形成することができる。形成されたレジスト被膜は感度、解像度等に優れる。
請求項（抜粋）：
(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)1,2-キノンジアジド化合物、及び(c)プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネートを含む溶剤を含有してなることを特徴とするポジ型レジスト溶液。
IPC (5件)：
G03F 7/004 501
, G03F 7/022
, G03F 7/023 511
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
