特許
J-GLOBAL ID：200903015430877316

ポジ型感放射線性組成物

発明者：
漢那 慎一

漢那 慎一 について

, 
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-137461
公開番号（公開出願番号）：特開2001-318464
出願日： 2000年05月10日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：
【要約】【課題】 ポジ型化学増幅レジストにあって、露光した後、後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られるプロセス許容性が大きいポジ型感放射線性組成物を提供すること。【解決手段】 酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、 活性光線又は放射線の照射により分子量100以下のカルボン酸を発生する化合物、界面活性剤、及び溶剤を含有するポジ型感放射線性組成物。
請求項（抜粋）：
(a)酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、(b)活性光線又は放射線の照射により分子量100以下のカルボン酸を発生する化合物、(c)界面活性剤、及び(d)溶剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。
IPC (9件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 25/18 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (9件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 25/18 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (92件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BC101 ,  4J002BC111 ,  4J002BC121 ,  4J002BD122 ,  4J002BG032 ,  4J002BG071 ,  4J002CH052 ,  4J002CP032 ,  4J002EB117 ,  4J002EB127 ,  4J002EB147 ,  4J002EB157 ,  4J002ED057 ,  4J002EG016 ,  4J002EH048 ,  4J002EN029 ,  4J002EN069 ,  4J002EN099 ,  4J002EQ019 ,  4J002ER009 ,  4J002ER029 ,  4J002ES007 ,  4J002EU049 ,  4J002EU079 ,  4J002EU119 ,  4J002EU129 ,  4J002EU239 ,  4J002EV047 ,  4J002EV116 ,  4J002EV129 ,  4J002EV217 ,  4J002EV237 ,  4J002EV296 ,  4J002EV297 ,  4J002EV307 ,  4J002FD020 ,  4J002FD090 ,  4J002FD200 ,  4J002FD312 ,  4J002FD318 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05 ,  4J100AB02R ,  4J100AB04R ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AL03R ,  4J100AL75Q ,  4J100AM02R ,  4J100AM15R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA04R ,  4J100BA05Q ,  4J100BA05R ,  4J100BA13Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BA20R ,  4J100BA29Q ,  4J100BA31Q ,  4J100BA33Q ,  4J100BA35Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BA52Q ,  4J100BA53Q ,  4J100BB01Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC43Q ,  4J100BC65Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (8件)
  • パターン形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-095681   出願人：松下電子工業株式会社, クラリアントジャパン株式会社
  • ポジ型感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-025531   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • 放射線感応性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-269579   出願人：ヘキストジャパン株式会社
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審査官引用 (8件)
  • パターン形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-095681   出願人：松下電子工業株式会社, クラリアントジャパン株式会社
  • ポジ型感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-025531   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • 放射線感応性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-269579   出願人：ヘキストジャパン株式会社
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