特許
J-GLOBAL ID:200903015670306421

光電変換装置及びその作製方法及び物質透過撮像装置及び実装装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山下 穣平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-267138
公開番号(公開出願番号):特開平9-260626
出願日: 1996年10月08日
公開日(公表日): 1997年10月03日
要約:
【要約】【課題】 複数枚の基板を平面的に配列した光電変換装置において、各基板の高さギャップの発生を無くすことにより、解像力の低下及び感度の低下、剥れ等の問題が生じない光電変換装置を実現する。【解決手段】 基台2上に、複数枚の半導体素子基板1を配列して接着剤51で固定して形成する光電変換装置において、複数の前記基板1の表面が、前記基台2表面と、それぞれの前記基板1の半導体素子13面との間の寸法を設計値Aに保った状態で、前記接着剤51を硬化して所望の前記接着剤51の厚みで高さ調整されて、同一平面としてあることを特徴とした実装方法による光電変換装置。
請求項(抜粋):
基台上に、複数枚の半導体素子基板を配列して接着剤で固定してなる光電変換装置において、複数の前記基板の基台と反対側の表面が、それぞれの基板を接着する前記接着剤の厚みで高さ調整されて、同一平面とされていることを特徴とする光電変換装置。
IPC (8件):
H01L 27/14 ,  G01J 1/44 ,  G01T 1/20 ,  H01L 31/02 ,  H01L 31/14 ,  H04N 1/028 ,  H04N 1/04 ,  H04N 5/335
FI (8件):
H01L 27/14 D ,  G01J 1/44 Z ,  G01T 1/20 E ,  H01L 31/14 B ,  H04N 1/028 Z ,  H04N 5/335 V ,  H01L 31/02 B ,  H04N 1/04 E
引用特許:
審査官引用 (10件)
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