特許
J-GLOBAL ID：200903015795506490

プラズマ処理方法及びプラズマ装置

発明者：
新井 宏和

新井 宏和 について


出願人/特許権者：
住友金属工業株式会社

住友金属工業株式会社 について


代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-286843
公開番号（公開出願番号）：特開平8-148436
出願日： 1994年11月21日
公開日（公表日）： 1996年06月07日
要約：
【要約】【目的】 試料に付着するパーティクル数を大幅に削減することが可能なプラズマ処理方法及びその実施に使用するプラズマ装置を提供すること。【構成】 プラズマ照射をオフする直前に、移動装置13を駆動させて円板15を試料台5の上方へ移動させてからガス管7からの反応ガスの供給をオフする。また反応ガスの供給をオフしたとき、ガス管14からの不活性ガスの導入を開始する。そして処理が終了した試料Sを搬入,搬出口9から搬出し、次の試料Sを搬入,搬出口9から反応室3内へ搬入して試料台5上に載置する。その後、ガス管14からの不活性ガスの導入を停止し、ガス管7からの反応ガスの供給を再開してプラズマ照射を再開する。プラズマが安定した後、移動装置13を駆動させて円板15を試料台5の上方から待機位置へ移動させて試料Sの処理を再開する。
請求項（抜粋）：
反応ガス及びマイクロ波を導入してプラズマを生成し、該プラズマを反応室へ導入し、複数の試料を反応室内の試料台上に逐次載置して試料をプラズマ処理する方法において、1回のプラズマ処理が終了してプラズマ生成を停止する前に石英ガラス板にて試料台を覆い、反応ガスの供給を停止し、不活性ガスの供給を開始し、処理が終了した試料を反応室から搬出し、次回の試料を反応室へ搬入して試料台上に載置し、不活性ガスの供給を停止し、反応ガスの供給を再開し、プラズマ生成を再開し、石英ガラス板を試料台から除去して試料の処理を再開することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (4件)：
H01L 21/205 ,  C23C 14/56 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46
引用特許：
審査官引用 (4件)
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