排気装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：宮本治彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-180929
公開番号（公開出願番号）：特開平9-000909
出願日： 1995年06月23日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】【目的】粗引きポンプ出口側に排気ガス切替用バルブを設ける必要をなくし、簡単で低価格でメンテナンスが容易であり安全に可燃性ガスと支燃性ガスとを排気できる排気装置を提供する。【構成】SiH4 系可燃性ガス102を反応室114内に流して成膜を行う。成膜時の排気ガスは排気配管170に排気する。N2 ガスをマスフローコントローラ150によってドライポンプ140直後の排気配管170に供給し、可燃性ガスの爆発限界以下の濃度となるように希釈する。NF3 系支燃性ガスを流して反応室114内のプラズマクリーニングを行う。クリーニング時の排気ガスも成膜時と同一の排気配管170に排気する。N2 ガスをマスフローコントローラ150によってドライポンプ140直後の排気配管170に供給し、支燃性ガスの爆発限界以下の濃度となるように希釈する。

請求項（抜粋）：

可燃性ガス供給系と支燃性ガス供給系とが接続された反応室を排気する排気装置であって、真空ポンプと前記真空ポンプの排出口側に接続された排気配管とを備えた排気装置において、前記排気配管または前記真空ポンプの前記排出口に不活性ガス供給手段を接続して前記真空ポンプから排出される前記可燃性ガスおよび支燃性ガスを前記不活性ガスにより希釈できるようにし、前記可燃性ガスと前記支燃性ガスとを単一の前記排気配管から排気するようにしたことを特徴とする排気装置。

IPC (3件)：

B01J 3/02 , H01L 21/205 , H01L 21/31

FI (3件)：

B01J 3/02 M , H01L 21/205 , H01L 21/31 C

引用特許：

審査官引用 (5件)

給排ガスの切替システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-189352 出願人：テル・バリアン株式会社
特開平3-024273
真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-200154 出願人：荏原インフィルコ株式会社, 株式会社荏原製作所, 株式会社荏原総合研究所

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