光反応装置及び光反応制御方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 寺崎史朗 , 石田悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-325079
公開番号（公開出願番号）：特開2005-087879
出願日： 2003年09月17日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

【課題】パルス時間幅が短いパルス光を用いた場合であっても、光反応の反応効率を充分に向上することが可能な光反応装置、及び光反応制御方法を提供する。【解決手段】レーザ光源10から出射されたパルス光を反応チャンバSに照射し、反応チャンバS内の反応対象物に光反応を生じさせる光反応装置1Aにおいて、反応評価部20と、制御演算装置30と、光源制御装置35とを設ける。反応評価部20は、反応計測装置21によって反応対象物で生じた光反応を計測して評価する。制御演算装置30は、反応評価部20による光反応の評価結果に基づいて、レーザ光源10に対する制御条件を求める。そして、光源制御装置35は、求められた制御条件に基づいて、レーザ光源10の共振器内での位相速度と群速度との関係を制御し、パルス光のCEPを調整する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

反応対象物に照射される所定波長のパルス光を出射するレーザ光源と、前記パルス光によって前記反応対象物に生じる光反応を評価する反応評価手段と、前記反応評価手段による前記光反応の評価結果に基づいて、前記レーザ光源に対する制御条件を演算して求める制御演算手段と、求められた前記制御条件に基づいて、前記レーザ光源における共振器内での位相速度と群速度との関係を制御する光源制御手段とを備えることを特徴とする光反応装置。

IPC (2件)：

B01J19/12 , H01S3/00

FI (2件)：

B01J19/12 B , H01S3/00 F

Fターム (15件)：

4G075AA62 , 4G075AA65 , 4G075BA04 , 4G075CA36 , 4G075CA51 , 4G075DA04 , 5F072HH07 , 5F072KK01 , 5F072KK07 , 5F072KK08 , 5F072KK12 , 5F072QQ02 , 5F072RR07 , 5F072SS08 , 5F072YY11

引用特許：

出願人引用 (1件)

光反応装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-024022 出願人：浜松ホトニクス株式会社

審査官引用 (10件)

透明媒質加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-078671 出願人：理化学研究所, 浜松ホトニクス株式会社
多色モードロックレーザを用いた光周波数測定装置及び測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-136429 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, アイシン精機株式会社
特開平2-012227

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