特許
J-GLOBAL ID：200903016876965762

複屈折測定方法及びその装置

発明者：
森田 展弘

森田 展弘 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 柏木 慎史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-083007
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275142
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：
【要約】【課題】 被検物表面における汚れ等のノイズの影響を受けにくい複屈折の測定が可能な複屈折測定方法を提供する。【解決手段】 ほぼ円偏光を被検物1に対して照射し、この被検物1を透過した光束を検光子7のみを介して受光手段9にて受光するとともに検光子7を回転させたときに得られる光強度変化より求めた被検物透過光の偏光情報と、被検物1を透過した光束を移相子17と検光子7とを介して受光手段9にて受光するとともに検光子7を回転させたときに得られる光強度変化より求めた被検物透過光の偏光情報との、両偏光情報に基づき被検物1の複屈折を求めるようにした。
請求項（抜粋）：
ほぼ円偏光を被検物に対して照射し、前記被検物を透過した光束を検光子のみを介して受光手段により受光するとともに前記検光子を回転させたときに得られる光強度変化より求めた被検物透過光の偏光情報と、前記被検物を透過した光束を移相子と前記検光子とを介して前記受光手段により受光するとともに前記検光子を回転させたときに得られる光強度変化より求めた被検物透過光の偏光情報との、両偏光情報に基づき前記被検物の複屈折を求めるようにした複屈折測定方法。
IPC (2件)：
G01M 11/02 ,  G01N 21/23
FI (2件)：
G01M 11/02 B ,  G01N 21/23
Fターム (12件)：
2G059AA02 ,  2G059BB08 ,  2G059EE05 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ30 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G086FF06 ,  2G086HH07
引用特許：
出願人引用 (6件)
  • 偏光及び複屈折測定装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-264261   出願人：旭光学工業株式会社
  • 複屈折測定装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-257718   出願人：王子製紙株式会社
  • 特開平4-058138
全件表示
審査官引用 (2件)
  • 偏光及び複屈折測定装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-264261   出願人：旭光学工業株式会社
  • 複屈折測定装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-257718   出願人：王子製紙株式会社

前のページに戻る

TOP

BOTTOM