姿勢制御装置付精密加工装置及び姿勢制御方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： , , ,
代理人 (1件)：田中宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-326759
公開番号（公開出願番号）：特開2002-127003
出願日： 2000年10月26日
公開日（公表日）： 2002年05月08日
要約：

【要約】【目的】本発明は、例えばシリコンウェハ等、極めて精密な形状精度と仕上面粗さを必要とする物品の加工を行なうための姿勢制御装置付精密加工装置及びその姿勢制御方法に係わるものである。【構成】砥石とその回転装置、およびワークとその回転装置とが各々独立したテーブル上に載置され、砥石軸とワーク軸とが同軸上に対向するように配置されてなる精密加工装置において、前記2つのテーブルのいずれか一方に姿勢制御プレートが具備されてなり、該姿勢制御プレートは接点Cを支点としてそれを中心に任意空間の方向に微小角度での同時回転が可能であり、かつ姿勢制御プレートの微小回転は超磁歪アクチュエータの微小変位を利用して行われることを特徴とする姿勢制御装置付精密加工装置であり、その姿勢制御において、ヒステリシスモデルを応用した制御システムにより、超磁歪アクチュエータの超磁歪素子の持つヒステリシス特性の補償を行なうことを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

砥石とその回転装置、およびワークとその回転装置とが各々独立したテーブル上に載置され、砥石軸とワーク軸とが同軸上に対向するように配置されてなる精密加工装置において、前記2つのテーブルのいずれか一方に姿勢制御プレートが具備されてなり、該姿勢制御プレートは接点Cを支点としてそれを中心に任意空間の方向に微小角度での同時回転が可能であり、かつ姿勢制御プレートの微小回転は超磁歪アクチュエータの微小変位を利用して行われることを特徴とする姿勢制御装置付精密加工装置。

IPC (4件)：

B24B 41/04 , B23Q 17/00 , H01L 21/304 621 , H01L 21/304 622

FI (4件)：

B24B 41/04 , B23Q 17/00 Z , H01L 21/304 621 C , H01L 21/304 622 R

Fターム (5件)：

3C029EE02 , 3C034AA08 , 3C034CA12 , 3C034CA13 , 3C034CB08

引用特許：

審査官引用 (12件)

精密加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-152833 出願人：江田弘, 中野博民, 日立ビアメカニクス株式会社
工作機械および工具の姿勢制御システム並びに研削システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-121960 出願人：畑村洋太郎
精密平面加工機械
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-315259 出願人：茨城県

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