特許
J-GLOBAL ID：200903017105364100
リソグラフィ装置、デバイス製造方法、これにより製造されたデバイス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-161590
公開番号（公開出願番号）：特開2002-015993
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：
【要約】【課題】 157nmの露光放射線を使用するリソグラフィ投影システムで、例えば酸素および水蒸気のレベルなどのガス組成を、投影ビームが横断する領域で測定する。【解決手段】 前記ガスによる減衰が予想され、それにしたがって露光中に蓄積される放射線の照射量、露光中に前記投影ビームによって基板に与えられる放射線エネルギの均一性および角度分布が制御される。制御は、投影ビームが制御された状態で減衰するよう、投影ビームが横断するボリュームへのO2の供給量を制御することを含む。O2の分布は、例えば空間的に分離された回折オーダーを選択的に遮るか、投影ビームの不均一性を解消するため、不均一でよい。
請求項（抜粋）：
放射線感受性材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板上にパターンを撮像するリソグラフィ投影装置であって、-放射線投影ビームを提供する放射線システムと、-パターン形成手段を支持する支持構造とを備え、パターン形成手段は所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをし、さらに、-基板を保持する基板テーブルと、-パターン化した投影ビームを基板の標的部分に投影する投影システムとを備える装置であって、投影ビームが横断する少なくとも1つの領域でガス組成を測定するセンサ手段と、標的部分の露光中に、前記投影ビームによって前記基板に与えられる放射線エネルギを制御するため、前記センサ手段によって測定された前記ガス組成に応答する制御手段とを特徴とする装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 F
, H01L 21/30 516 D
, H01L 21/30 518
5F046BA05
, 5F046CA07
, 5F046DA02
, 5F046DA27
, 5F046DB03
, 5F046DC09
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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