特許
J-GLOBAL ID：200903062927435943
リソグラフィーにおける性能向上用塗布組成物および当該塗布組成物を使用したパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-134730
公開番号（公開出願番号）：特開平8-305024
出願日： 1995年05月08日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：
【要約】【目的】リソグラフィーにおける性能向上用塗布組成物および当該塗布組成物を使用したパターン形成方法を提供する。【構成】化学増幅型フォトレジスト組成物塗布膜の上面に塗布して使用される塗布組成物であって、水溶性であり、且つ、感光性酸発生化合物を含有し、pHが4以上である塗布組成物。基板上に塗布された化学増幅型フォトレジスト組成物塗布膜の上面に上記の塗布組成物を塗布し、光を投射してパターン潜像を転写し、次いで、加熱処理した後に現像を行う。【効果】1種類の表面塗布組成物を塗布するだけの簡単な方法により、高解像にて、転写パターンの形状および焦点深度が良好であり、且つ、転写パターン寸法の塗布膜厚による変化が小さく、良好な結果のパターンが形成される。
請求項（抜粋）：
化学増幅型フォトレジスト組成物塗布膜の上面に塗布して使用される塗布組成物であって、水溶性であり、且つ、感光性酸発生化合物を含有し、pHが4以上であることを特徴とする、リソグラフィーにおける性能向上用塗布組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/095
, G03F 7/26 511
, G03F 7/38 511
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/095
, G03F 7/26 511
, G03F 7/38 511
, H01L 21/30 502 R
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (19件)
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