特許
J-GLOBAL ID：200903017241258268
窒化炭素の製造方法及びその方法により得られる窒化炭素
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-169516
公開番号（公開出願番号）：特開平10-018040
出願日： 1996年06月28日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：
【要約】【課題】結合エネルギーが大きく、励起・解離が困難な化合物、組成物等を出発原料として使用した場合であっても目的とする材料を形成することが可能な、改良された気相蒸着法を提供する。【解決手段】化学的気相蒸着(CVD)法又は物理的気相蒸着(PVD)法を使用して窒化炭素を製造するに、これらの気相蒸着を行うエネルギー源とは別に基板上の膜の成長面に100〜300nmの範囲の波長を含む光、好ましくは中心波長が100〜300nmのレーザー光を照射する。
請求項（抜粋）：
化学的気相蒸着(CVD)法又は物理的気相蒸着(PVD)法を使用して窒化炭素を製造するに、基板上に形成される前記窒化炭素の成長面に別途100〜300nmの範囲の波長を含む光を照射することを特徴とする窒化炭素の製造方法。
IPC (6件)：
C23C 16/34
, C01B 21/082
, C23C 14/22
, C23C 16/48
, H01L 21/205
, H01L 21/318
C23C 16/34
, C01B 21/082 Z
, C23C 14/22 F
, C23C 16/48
, H01L 21/205
, H01L 21/318 B
