特許
J-GLOBAL ID：200903017276091366
露光処理装置及び露光処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-294313
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110508
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：
【要約】【課題】 荷電ビーム露光における生産性を向上させる。【解決手段】 荷電ビームによって露光を行うための露光処理装置であって、部分一括露光用アパーチャ部5に形成された開口パターン6に関する情報を取得するパターン情報取得手段8と、開口パターンと比較される比較パターン27に関する情報を保持するパターン情報保持手段25と、パターン情報取得手段によって取得された開口パターンに関する情報と、パターン情報保持手段に保持された比較パターンに関する情報との比較結果に基づいて、開口パターンの形状を識別するパターン識別手段26とを備える。
請求項（抜粋）：
荷電ビームによって露光を行うための露光処理装置であって、部分一括露光用アパーチャ部に形成された開口パターンに関する情報を取得するパターン情報取得手段と、前記開口パターンと比較される比較パターンに関する情報を保持するパターン情報保持手段と、前記パターン情報取得手段によって取得された開口パターンに関する情報と、前記パターン情報保持手段に保持された比較パターンに関する情報との比較結果に基づいて、前記開口パターンの形状を識別するパターン識別手段と、を備えたことを特徴とする露光処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, H01J 37/305
G03F 7/20 504
, H01J 37/305 B
, H01L 21/30 541 S
2H097AA03
, 2H097BA10
, 2H097CA16
, 2H097EA01
, 2H097GB00
, 5C034BB05
, 5F056AA06
, 5F056CB07
