分割ヒーター付きアニール装置及び方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：社本一夫 , 増井忠弐 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 宮前徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-393974
公開番号（公開出願番号）：特開2005-158939
出願日： 2003年11月25日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

【課題】ワーク寸法が通常の寸法(約620mm)より大きい(約1000mm〜1800mm)場合にはアニール処理室内部の温度分布が一定せず、適切な温度の面内分布を得ることが出来ず、所望の品質を有するアニール処理が出来ない。【解決手段】側部加熱手段と下部加熱手段と蒸気発生加熱手段とを有し、側部加熱手段が反応容器の長手方向に距離をおいて配置された複数の分割加熱手段により構成し、かつ、これらの各分割加熱手段が反応容器の周囲を所定角度だけ加熱する複数の細分割ヒーターの集合体により構成しており、下部加熱手段を反応容器の下面において同心円上に距離をおいて配置された複数の分割加熱手段により構成し、上記側部加熱手段、下部加熱手段及び蒸気発生加熱手段をそれぞれ独立して温度調整が可能とした。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

圧力容器内へ間隔を置いて配置されている反応容器内へ収容されたワークを高圧アニール水蒸気処理方法にてアニール処理を施す分割ヒーターによる温度制御可能な高温高圧アニール水蒸気処理装置であって、側部加熱手段と、下部加熱手段と、蒸気発生加熱手段と、を有し、側部加熱手段が反応容器の長手方向に距離をおいて配置された複数の分割加熱手段(32A、32B、32C....32N)により構成され、かつ、これらの各分割加熱手段(32A、32B、32C....32N)が反応容器の周囲を所定角度だけ加熱する複数の細分割ヒーター(32Aa、32Ab、32Ac...32Ba、32Bb、32Bc...)の集合体により構成されており、下部加熱手段が反応容器の下面において同心円上に距離をおいて配置された複数の分割加熱手段(33A、33B、33C....33N)により構成されており、上記側部加熱手段、下部加熱手段及び蒸気発生加熱手段がそれぞれ独立して温度調整が可能であることを特徴とする分割ヒーター付きアニール水蒸気処理装置。

IPC (4件)：

H01L21/31 , C03B32/00 , H01L21/324 , H05B3/00

FI (5件)：

H01L21/31 E , C03B32/00 , H01L21/324 K , H05B3/00 310E , H05B3/00 350

Fターム (19件)：

3K058AA02 , 3K058AA41 , 3K058BA19 , 3K058CA28 , 3K058CB25 , 4G015EA00 , 5F045AA20 , 5F045AB32 , 5F045AC00 , 5F045AE30 , 5F045AF03 , 5F045AF07 , 5F045BB02 , 5F045BB08 , 5F045CA15 , 5F045DP19 , 5F045EK06 , 5F045EK22 , 5F045EK27

引用特許：

出願人引用 (1件)

高精度高圧アニール装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-311638 出願人：株式会社協真エンジニアリング

審査官引用 (6件)

加圧式加熱炉
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-155466 出願人：石川島播磨重工業株式会社
熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-249251 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-132354 出願人：石川島播磨重工業株式会社

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