特許
J-GLOBAL ID：200903026388828409

高精度高圧アニール装置

発明者：
河原 勝

河原 勝 について


出願人/特許権者：
株式会社協真エンジニアリング

株式会社協真エンジニアリング について


代理人 (6件)： 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  宮前 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-311638
公開番号（公開出願番号）：特開2005-079528
出願日： 2003年09月03日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：
【課題】 反応容器の形状及び構造が複雑でシール手段が損耗する。また、装置の製造、取扱い及び保全にある程度の熟練が要求され、更に、反応容器周辺に対する加熱手段の取り付けが困難である。また、アニール作業の効率が高くなく、該作業を行なう容器内の温度分布も必ずしも常に均一ではなく、ワークへ供給する蒸気の寸法が一定でなくワークの仕上がり精度が一定せず、作業効率がよくない。 【解決手段】 圧力容器と、該容器内に配置されており内部にワークをアニール処理するためのアニール処理室を画定しておりかつ互に封止手段により封止連結されている筒体とエンドキャップとにより構成されている反応容器と、加熱手段と、石英ガラス板と、温度制御センサーと、反応容器内へ純水を供給するための純水供給手段と、反応容器内に有り純水供給手段からの純水を保持する部所と、反応容器内の圧力を制御する圧力制御手段と、を有する。 【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
高精度高圧アニール装置であって、 圧力容器と、 該圧力容器内に配置されており内部にワークをアニール処理するためのアニール処理室を画定しておりかつ互に封止手段により封止連結されている筒体とエンドキャップとにより構成されている反応容器と、 反応容器内を加熱する加熱手段と、 加熱手段の上方にあり反応容器内に設けられている石英ガラス板と、 石英ガラス板とワークとの間に配置されている温度制御センサーと、 反応容器内へ純水を供給するための純水供給手段と、 反応容器内に有り純水供給手段からの純水を保持する部所と、 反応容器内の圧力を制御する圧力制御手段と、 を有していることを特徴とする高精度高圧アニール装置。
IPC (3件)：
H01L21/31 ,  G02F1/1368 ,  H01L21/324
FI (3件)：
H01L21/31 E ,  G02F1/1368 ,  H01L21/324 G
Fターム (21件)：
2H092JA23 ,  2H092JA28 ,  2H092KA04 ,  2H092KA08 ,  2H092KB24 ,  2H092MA25 ,  2H092NA11 ,  2H092NA21 ,  2H092NA25 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AD07 ,  5F045AE30 ,  5F045DP19 ,  5F045EB02 ,  5F045EC01 ,  5F045EC07 ,  5F045EK11 ,  5F045EK21 ,  5F045GB05 ,  5F045GB06
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (6件)
  • ウエハ処理方法及びウエハ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-291798   出願人：株式会社東芝
  • 特開平1-145805
  • 加熱装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-132354   出願人：石川島播磨重工業株式会社
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM