特許
J-GLOBAL ID：200903017832661428

基板処理装置及び経由チャンバー

発明者：
高橋 信行

高橋 信行 について


出願人/特許権者：
アネルバ株式会社

アネルバ株式会社 について


代理人 (1件)： 保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-399442
公開番号（公開出願番号）：特開2002-203884
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 基板の大型化を背景とした諸課題を解決し、占有面積の増大の抑制、基板の撓みの問題の解消、メンテナンスの容易化等を達成する。【解決手段】 処理チャンバーを含む複数の真空チャンバーが周囲に気密に接続された方向転換チャンバーを経由して各処理チャンバーに順次基板9が搬送系により搬送される。搬送系は、板面が水平に対して45度以上90度以下になるよう二枚の基板9を保持した基板保持具92を水平移動機構により水平に移動させて基板9を搬送する。方向転換チャンバーは、水平移動機構による移動の方向を転換する方向転換機構を備える。方向転換機構は、基板保持具92とともに水平移動機構を方向転換チャンバーの中心軸に一致した垂直な回転軸の周りに回転させることで移動方向を転換する。
請求項（抜粋）：
内部で基板に所定の処理を施す処理チャンバーを含む複数の真空チャンバーと、これら複数の真空チャンバーを周囲に気密に接続した真空チャンバーである経由チャンバーと、経由チャンバーを経由して複数の真空チャンバーに順次基板を搬送する搬送系とを備えた基板処理装置であって、前記搬送系は、前記基板をその板面が水平に対して45度以上90度以下の保持角度になるよう立てて保持した基板保持具と、この基板保持具を前記経由チャンバーを経由して周囲の各真空チャンバーに移動させる水平移動機構とから成ることを特徴とする基板処理装置。
IPC (7件)：
H01L 21/68 ,  B65G 49/06 ,  C23C 14/50 ,  C23C 16/44 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065
FI (7件)：
H01L 21/68 A ,  B65G 49/06 Z ,  C23C 14/50 K ,  C23C 16/44 F ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/302 B
Fターム (56件)：
2H088FA17 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  4K029BD00 ,  4K029KA01 ,  4K030GA12 ,  4K030LA18 ,  5F004BB15 ,  5F004BB26 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004DA00 ,  5F031CA01 ,  5F031CA02 ,  5F031CA04 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA09 ,  5F031FA18 ,  5F031FA21 ,  5F031GA30 ,  5F031GA37 ,  5F031GA57 ,  5F031HA09 ,  5F031HA44 ,  5F031HA45 ,  5F031HA57 ,  5F031HA60 ,  5F031LA04 ,  5F031LA13 ,  5F031LA14 ,  5F031LA15 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA13 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031NA02 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F031NA17 ,  5F031PA05 ,  5F031PA06 ,  5F031PA18 ,  5F103AA08 ,  5F103BB14 ,  5F103BB34 ,  5F103BB35 ,  5F103BB36 ,  5F103BB42 ,  5F103BB49 ,  5F103HH04
引用特許：
審査官引用 (4件)
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