真空処理システム

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-360495
公開番号（公開出願番号）：特開2000-183129
出願日： 1998年12月18日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】高いスループットを得ることが可能な真空処理システムを提供する。【解決手段】真空処理システム50は、被処理基板を搬送するための搬送装置20a〜20cが内部を移動可能なロードロック室として構成された共通搬送室51を有する。共通搬送室51に対して、複数の真空処理室53a〜53e、ロード室54、アンロード室55、及び台車室56がゲート弁59を介して接続される。台車室56を待機位置とする搬送装置20bにより、真空処理室53a〜53e間で被処理基板が搬送される。

請求項（抜粋）：

被処理基板を処理するための真空処理システムであって、前記システム内を走行するための台車と、前記被処理基板を支持するため、前記台車上に配設された支持機構と、を有する搬送装置と、前記被処理体を支持した状態の前記搬送装置が内部を移動可能なロードロック室として構成された共通搬送室と、前記共通搬送室に対してゲート弁を介して夫々接続され、前記搬送装置により前記被処理基板を搬出入される複数の真空処理室と、前記共通搬送室に対してゲート弁を介して接続されると共に前記被処理体を搬入するためのロードロック室として構成されたロード室と、前記共通搬送室に対してゲート弁を介して接続されると共に前記被処理体を搬出するためのロードロック室として構成されたアンロード室と、前記共通搬送室に対して接続されると共に前記搬送装置を内部に収容可能な台車室と、を具備することを特徴とする真空処理システム。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , B65G 49/06 , C23C 16/44 , H01L 21/205

FI (4件)：

H01L 21/68 A , B65G 49/06 Z , C23C 16/44 F , H01L 21/205

Fターム (26件)：

4K030CA06 , 4K030CA17 , 4K030GA12 , 4K030GA14 , 4K030KA08 , 4K030KA11 , 4K030KA49 , 5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA09 , 5F031GA58 , 5F031HA80 , 5F031MA04 , 5F031MA07 , 5F031MA09 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F045AA08 , 5F045BB08 , 5F045BB14 , 5F045DQ14 , 5F045DQ17 , 5F045EB08 , 5F045EM01 , 5F045EN04 , 5F045HA24

引用特許：

審査官引用 (4件)

薄膜製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-121305 出願人：住友重機械工業株式会社
成膜装置の基板搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-251249 出願人：三菱重工業株式会社
半導体製造装置の搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-114580 出願人：株式会社日立製作所

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