特許
J-GLOBAL ID:200903017837367854

露光方法及び露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡部 温 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-372315
公開番号(公開出願番号):特開2003-173958
出願日: 2001年12月06日
公開日(公表日): 2003年06月20日
要約:
【要約】【課題】 レチクルの交換や温度管理を容易に行うことができる露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】 真空レチクルライブラリ64には、搬送されたレチクルを載置するための複数段の台68が設けられている。この台68内には、流路68aが形成されている。台68の流路68aに温度調整された水を流すことで、台上のレチクルの温度調節が可能である。一方、大気レチクルライブラリ66には、複数段の台69が設けられている。各台69上には、それぞれレチクルケース67が載置されている。レチクルケース67及び各レチクルには、バーコード70が付されている。レチクルを搬送する際には、レチクルに付けたバーコード70を読み取って、搬送するレチクルの確認を行うことができる。
請求項(抜粋):
減圧雰囲気中でマスク(レチクル含む)上のパターンを感応基板上に転写する露光方法であって;使用予定の複数枚のマスクを露光装置に連結された減圧雰囲気中で保持することを特徴とする露光方法。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/305
FI (6件):
G03F 7/20 504 ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 503 E ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 541 L
Fターム (9件):
2H097CA16 ,  2H097GB00 ,  5C034BB06 ,  5F046AA21 ,  5F046AA22 ,  5F046CD04 ,  5F056AA06 ,  5F056AA21 ,  5F056EA12
引用特許:
審査官引用 (5件)
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